可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱用途
用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積
晶圓基底脫水烘烤
用于半導(dǎo)體激光器芯片金屬剝離處理的光刻膠圖像反轉(zhuǎn)
HMDS真空烘箱特點(diǎn)
我們的控制系統(tǒng)支持用戶根據(jù)需要選擇溫度、處理時(shí)長(zhǎng)及腔室尺寸。具有卓&越的 HMDS 鍵合和均勻性性能可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量。
此外,我們的技術(shù)還能降低化學(xué)物品的使用量和成本,大批量產(chǎn)能和接近零的化學(xué)廢物排放,實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)效益。
通過工藝處理,達(dá)到圖像反轉(zhuǎn)效果,解決了圖像反轉(zhuǎn)光刻膠的復(fù)雜性。>99% 的正常運(yùn)行時(shí)間和可靠性,具有經(jīng)過客戶驗(yàn)證的卓&越一致性和可重復(fù)性
可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱性能
設(shè)備型號(hào):JS-HMDS90AI
工作室尺寸(mm): 300*300*300,450×450×450,650*650*650,1000*1000*1000可定制
材質(zhì):內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼
溫度范圍:RT+10-200℃
溫度波動(dòng)度:≤±0.5
真空度:1torr
操作界面:人機(jī)對(duì)話,一鍵式作業(yè)
分層數(shù)量:1-8層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加
真空泵:無油渦旋干泵
保護(hù)系統(tǒng):HMDS藥液泄漏報(bào)警提示,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過熱保護(hù)
可程式HMDS真空烘箱 HMDS真空烘箱 高溫HMDS真空烘箱應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)、科研機(jī)構(gòu)、研發(fā)平臺(tái)、高校實(shí)驗(yàn)室等,及新材料、新技術(shù)行業(yè)。
上海雋思儀器專注于半導(dǎo)體設(shè)備, 硅烷氣相沉積設(shè)備、精密熱板、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)、HMDS真空烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦洹o氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空無氧烘箱、干燥烘箱、真空儲(chǔ)存柜、環(huán)境可靠性設(shè)備、超低溫試驗(yàn)箱、高精度烤膠機(jī)等設(shè)備,同時(shí)可根據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)非標(biāo)類 適用的產(chǎn)品。