電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下,通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng),利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜).淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留,這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

一、產(chǎn)品總述：

EDI超純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置，根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來(lái)制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)。系統(tǒng)采用RO+EDI純化水工藝，產(chǎn)水水質(zhì)滿足客戶的生產(chǎn)用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統(tǒng)整體人性化設(shè)計(jì)，模塊化安裝，占地面積小，操作簡(jiǎn)單方便，運(yùn)行穩(wěn)定，節(jié)能。

相關(guān)參數(shù)：

進(jìn)水源：反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計(jì))
顆粒： ≤1μ?m
有機(jī)物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測(cè)不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進(jìn)水壓力： 0.2—0.4MPa
產(chǎn)水壓力： 產(chǎn)水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度

我司安排現(xiàn)場(chǎng)安裝、調(diào)試、培訓(xùn)以及定期保養(yǎng)。更多產(chǎn)品型號(hào)及價(jià)格請(qǐng)致電咨詢。

二、制水工藝（演示）：

三、設(shè)備圖片預(yù)覽：

四、超純水設(shè)備應(yīng)用范圍
1.化妝品行業(yè)：
護(hù)膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。

2.食品、飲料、純凈水行業(yè)：
食品生產(chǎn)用水和飲料生產(chǎn)用水以及純凈水的生產(chǎn)

3.電子工業(yè)：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。

4.電池行業(yè)：
蓄電池生產(chǎn)用純水、鋰電池生產(chǎn)用純水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用純水。

5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。

6.紡織印染工業(yè)：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。

7.超聲清洗用純水

8.涂裝行業(yè)：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。

五、不同出水品質(zhì)的工藝和材質(zhì)選項(xiàng)

六、操作系統(tǒng)顯示界面（下為演示界面）：