用于故障分析與敏感材料研究的高真空原子力顯微鏡
在高真空環(huán)境進行納米測量可顯著提高數(shù)據(jù)的靈敏度和分辨率，并增強材料分析能力。 因為高真空掃描環(huán)境相比氮氣N2或干燥環(huán)境條件更具有精確性和穩(wěn)定的重復(fù)性的數(shù)據(jù)，用戶可以在半導(dǎo)體材料和故障分析等應(yīng)用中測量各種摻雜濃度和反饋信號的不同響應(yīng)。
在高真空條件下執(zhí)行掃描擴散電阻顯微鏡測量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而大幅度降低對樣本和針尖的損傷。如此可延長各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。因此，利用NX-Hivac進行的高真空掃描擴散電阻顯微術(shù)測量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準確性的明智選擇。
Park Hivac 管理器
NX-Hivac 真空自動控制
Hivac 管理器通過一鍵單擊在邏輯和視覺上控制真空條件抽氣和排氣過程來實現(xiàn)高真空。各個過程通過顏色和圖示變化得到直觀監(jiān)控，一鍵單擊后您即可無需操心真空操作順序。更快速、更簡便的真空控制軟件使原子力顯微鏡的使用更便捷更高效。
高級自動化特點
NX-Hivac具有大量功能從而能夠減少用戶輸入。換言之，您可以更快速地掃描，提高實驗室產(chǎn)量。
配備電控載物臺的StepScan 自動化掃描
StepScan允許用戶能夠?qū)ζ骷M行編程從實現(xiàn)而快速便捷地多區(qū)域成像。NX-Hivac讓您只需五步即可完成樣本掃描：掃描、提升懸臂、移動電動平臺至用戶定義坐標區(qū)域、進針及重復(fù)掃描。如此可極大地提高生產(chǎn)率，減少用戶輸入。
電動激光對準
Park電動激光對準使用戶無需輸入即可無縫銜接自動化測量例程。憑借著我們的預(yù)準直懸臂架，在更換探針時激光已對準懸臂。只需要調(diào)整定位旋鈕，便可在X和Y軸上任意定位激光光點，達到位置。
提高精度和生產(chǎn)率
NX-Hivac即是精準的高性能原子力顯微鏡，同時也是用于故障分析的方便的原子力顯微鏡之一。Park NX-Hivac幫您可以提高自己的生產(chǎn)效率，并確保取得靠譜的結(jié)果。
閉環(huán)XY和Z軸掃描儀
利用兩個獨立的閉環(huán)XY和Z軸撓曲掃描儀，您可以確信掃描的高精準度。NX-Hivac提供低殘余彎曲的平面和正交XY軸掃描，使得整個掃描范圍內(nèi)的離面運動距離低于1 nm。此外，NX-Hivac的特色還有非線性為低于0.5%的15 μm掃描范圍的高速Z軸掃描儀，無需進行軟件后期處理即可獲得精準的二維和三位測量。
低噪聲XYZ軸位置傳感器
NX-Hivac具有Park原子力顯微鏡行業(yè)的低噪聲Z軸探測器功能，可準確測量樣本形貌，同時低噪聲XY軸閉環(huán)掃描將前后掃描間隙降低至掃描范圍的0.15%。
24位數(shù)字電子控制器
NX-Hivac的一大特點是NX系列電子控制器可實現(xiàn)時間浪費最小化、精度。我們的控制器為全數(shù)字、24位高速器件，用戶能夠利用其執(zhí)行一系列掃描，包括我們的真正非接觸（True Non-Contact）模式。控制器具有低噪聲設(shè)計和高速處理部件，是精密電壓和電流測量及納米級成像的之選。嵌入式電子產(chǎn)品同時具有數(shù)字信號處理特點，用戶可輕松地分析測量值和成像。
技術(shù)指標
| 掃描器 | XY掃描器： 50 μm × 50 μm (100 μm x 100 μm 可選) 掃描器： 15 μm |
| 視覺 | 軸向直接觀察樣品表面和懸臂 視野：840μm×630μm（帶10倍物鏡） CCD：500萬像素 |
| 樣品臺 | 樣品尺寸：使用單個樣品時為100 mm x 100 mm的開放空間，使用多個樣品時為10 mm x 10 mm的開放空間，厚度為20 mm XY樣品臺行程范圍： 22 mm x 22 mm Z平臺行程范圍： 24 mm 聚焦臺行程范圍: 11 mm |
| 高真空 | 真空等級： 通常小于 1 x 10-5 托 泵速: 使用渦輪和干式泵在約5分鐘內(nèi)達到 10^-5托 |
| 控制器 | 信號處理: ADC: 18通道 X，Y和Z掃描器位置傳感器的24位ADC DAC: 17 通道 用于X，Y和Z掃描器定位的20位ADC 綜合功能: 4通道靈活的數(shù)字鎖定放大器彈簧常數(shù)校準（熱控制法）數(shù)字Q控制 |
| 軟件 | Park SmartScan™: AFM系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集軟件 自動模式，可快速設(shè)置和輕松成像 手動模式，用于高級使用和更精細的掃描控制 XEI: AFM數(shù)據(jù)分析軟件 獨立設(shè)計—可以安裝和分析AFM以外的數(shù)據(jù) 能夠生成采集數(shù)據(jù)的3D渲染 Hivac Manager 全自動真空控制軟件 |
| 選項/模式 | 非接觸 接觸 輕巧 磁學(xué)特性 磁力顯微鏡 (MFM) 介電/壓電特性 壓電響應(yīng)力顯微鏡（PFM） 高壓PFM 壓電響應(yīng)譜 機械性能 PinPoint納米力學(xué) 力調(diào)制顯微鏡（FMM） 納米壓痕 納米刻蝕 高壓納米刻蝕 納米操縱 側(cè)向力顯微鏡（LFM） 力距（F / d）譜 力體積成像 電學(xué)特性 導(dǎo)電原子力顯微鏡（C-AFM） I / V譜 開爾文探針力顯微鏡（KPFM） 高壓KPFM 掃描電容顯微鏡（SCM） 掃描擴展電阻顯微鏡（SSRM） 掃描隧道顯微鏡（STM） 靜電力顯微鏡（EFM） 熱性能 掃描熱顯微鏡（SThM） 化學(xué)特性 化學(xué)力顯微鏡，帶功能化針尖 |
| 配件 | 溫控臺 傾斜樣品載臺 卡入式樣品載臺 |
