產(chǎn)品描述
PerkinElmer 長期技術創(chuàng)新,并擁有龐大的客戶群。如今,我們正在利用開創(chuàng)
性的 PinAAcle™ 系列將 AA 性能推動到新的高度。
PinAAcle 系列擁有一系列激動人心的技術進步,提供各種配置和功能,真正滿足您的
性能需求。
? 單火焰模式、單石墨爐模式,或同時具有兩種模式的小型化堆棧設計。
? 集成了火焰、石墨爐、流動注射、FIAS - 石墨爐和汞/氫化物功能于一體。
? 氘燈或縱向塞曼效應背景校正的選擇。
? 靈活、易用的 WinLab32™ 軟件。
無論您選擇了哪種型號,您都會發(fā)現(xiàn)一個直觀而高效的系統(tǒng),為您簡化整個分析過程(即便是應對極難分析的基體)。
體驗較高性能和工作效率。從 PerkinElmer PinAAcle 系列開始。
產(chǎn)品優(yōu)勢
光纖光學技術創(chuàng)建了一個涵蓋范圍全面的光學系統(tǒng),提高靈敏度并獲得檢測的理想檢出限。全新
設計的光路系統(tǒng)不僅保證了光束形狀相同,而且可使儀器的體積比市場上多數(shù)火焰/石
墨爐原子吸收系統(tǒng)都小。
PinAAcle 的小巧尺寸源自其的堆棧式設計。在雙模式火焰/石墨爐型號中,金屬鈦燃燒
頭組件固定在石墨爐上方,可快速方便地更改分析技術。
各個儀器都配有多功能 8 燈架,與 PerkinElmer Lumina™ 空心陰極燈 (HCL) 和的無極放電燈 (EDL) 兼容,無極放電燈提供更高的靈敏度和更長的使用壽命。靈活的 8 燈架有以下功能:
? 自動安裝預熱。
? 持續(xù)監(jiān)控燈的使用情況,以保持穩(wěn)定的性能和可靠的結果。
部件詳情
火焰分析
PinAAcle 的火焰模式具有真正的實時雙光束設計,可實現(xiàn)快速啟動和無需校準地的長期穩(wěn)定性。氘燈背景校正確保在較大的波長范圍內(nèi)地提高靈敏度和精確度,并且通過燃燒器位置調(diào)節(jié)向?qū)ё詣诱{(diào)整燃燒頭位置(從垂直和水平方向上)。WinLab32 軟件還有氣流優(yōu)化向?qū)В糜讷@得測量特定元素的高靈敏度。
儀器的應用中添加了霧化器的選擇,并有不銹鋼或高靈敏度、耐腐蝕等型號可供選擇。
石墨爐分析
在 PinAAcle 上切換到石墨爐模式,只需卸下火焰燃燒器組件。儀器可配置氘燈或縱向塞曼效應背景校正,使您可選擇適合您的背景校正分析技術。它還可讓您在同一系統(tǒng)上分析從到最復雜的各種樣品基體,而不會影響性能或靈敏度。
PerkinElmer 的縱向塞曼效應設計:
? 石墨管橫向加熱,從而極大的減少了基體效應。
? 提供相對于其他塞曼系統(tǒng)兩倍的光強度。
? 可以獲得的檢出限。
PinAAcle 石墨爐配備有 TubeView 石墨管彩色觀測系統(tǒng),可讓您:
? 查看石墨管內(nèi)部情況,方便的調(diào)節(jié)石墨爐自動進樣針在石墨管中的位置。
? 監(jiān)控分析過程中的干燥過程,從而使制定方法更加簡單。
等溫平臺石墨爐 (STPF)
PerkinElmer 石墨爐系統(tǒng)使用的 STPF 技術,確保更好的準確度、精確度和檢出限。STPF 技術涉及以下各項的使用:
? 一體化平臺
? 基體改進劑
? 加熱功率
? 原子化過程中無內(nèi)部氣流
? 基線偏移校正
? 使用峰值區(qū)域快速處理數(shù)據(jù)
? 背景校正
已有 15,000 多名 PerkinElmer 石墨爐用戶使用 STPF 技術獲得了成功
的軟件設計
不論用戶是誰,是何種應用,PinAAcle 系列上的 WinLab32 軟件都可快速方便的從樣品數(shù)據(jù)中獲取結果。
通過減少制定方法、分析樣品和生成報告所需的時間,WinLab32 簡化了工作流程的每一個步驟,從而提高實驗室生產(chǎn)率。軟件全自動制定石墨爐分析方法,允許優(yōu)化熱解和原子化溫度以及樣品和基體改進劑體積。它還允許您在離線狀態(tài)下創(chuàng)建方法、評論或重新處理數(shù)據(jù),甚至隨時添加樣品,而無需中斷正在進行的分析。
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品特點 | 900F | 900T | 900H | 900Z |
火焰法 | ü | ü | ü | |
氘燈背景校正石墨爐原子化器 | ü | |||
縱向塞曼背景校正石墨爐原子化器 | ü | ü | ||
光纖光路 | ü | ü | ü | ü |
真正的實時雙光束光學系統(tǒng) | ü | ü | ü | |
TubeView石墨管彩色觀測系統(tǒng) | ü | ü | ü | |
WinLab32交互式軟件界面 | ü | ü | ü | ü |