| 價格區間 | 面議 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
半導體行業專用氮氣發生器(腔體保護氣，干泵吹掃氣)
NITROGEN-M-100/200
Peculiar針對LC/MS 氮氣流量、純度、壓力的特殊要求專門設計了安全、高效、方便的專用于
PECULIAR(UK)INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED 英國普拉勒科技有限公司LC/MS 氮氣發生器，產生純度高達99.5%的潔凈、干燥氮氣，符合半導體行業腔體保護氣，干泵吹掃氣
要求，包含APCI及ESI接口。氮氣發生器采用膜分離技術，無須二次凈化，即可連續獲得潔凈、干
燥、無鄰苯二甲酸酯的氮氣，氮氣純度和流量穩定，使用壽命長。外置渦旋壓縮機提高了空氣供應
的安全性，流速范圍從0-100L/min, 可同時為一臺或多臺儀器供應氮氣。特殊機型可以定制，最
大流速范圍可以達到200 L/min。
主要技術參數 |
MAIN TECHNICAL PARAMETERS
◎流量：0-100/200L/min @100psi(7bar)
◎工作環境：5C-40℃ 濕度80%
◎使用海拔：2200m
◎露點：<-55℃
◎顆粒：<0.01μm
◎滯留液體：無
◎鄰苯二甲酸：無
◎噪聲：<47dB(A)
◎開機純化時間：30min
◎功率：8000W
◎電力要求：220V 50Hz
