用途:
本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
主要技術(shù)參數(shù):
1. 真空室:∅220mm*H380mm(標(biāo)配380mm高,若需要LIFT-OFF工藝腔體需加工至500);2. 可鍍工件直徑:60*60mm,配抽拉式樣品臺,樣品可旋轉(zhuǎn);另配備銅基板樣品臺;
3. 極限真空度:優(yōu)于5*10-5Pa(機(jī)械泵系統(tǒng))、8*10-5Pa(分子泵系統(tǒng));4. 抽氣時間:大氣壓~6*10-4Pa小于300min;5. 蒸發(fā):電阻式蒸發(fā)電極(2對) 功率:2KW;配備1套數(shù)顯蒸發(fā)電源,可對兩組蒸發(fā)源進(jìn)行切換使用。
6. 開啟方式:正面開門結(jié)構(gòu),便于換絲及裝料;7. 真空系統(tǒng):機(jī)械泵真空系統(tǒng)(機(jī)械泵+分子泵系統(tǒng)選配);
8. 水冷循環(huán)系統(tǒng) 0.5P;
設(shè)備結(jié)構(gòu)介紹:
該設(shè)備由真空室、真空機(jī)組和電氣系統(tǒng)組成
- 真空室
圓形形腔體,側(cè)部抽氣,正面開門。不銹鋼材質(zhì),配φ100觀察窗(含防污擋板)、預(yù)抽接口、充氣接口;內(nèi)部有底板、蒸發(fā)源(兩組蒸發(fā)源相互隔離避免交叉污染),蒸發(fā)源上配有手動擋板裝置等;
- 真空系統(tǒng)及進(jìn)氣
采用110L分子泵+4L旋片式機(jī)械泵。采用真空波紋管連接,配有復(fù)合式數(shù)顯真空測量儀表。
可根據(jù)需要選配流量計(jì),用于進(jìn)氣流量精確控制。
- 電氣系統(tǒng)
電氣系統(tǒng)包括真空機(jī)組控制、蒸發(fā)與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機(jī)構(gòu),有效防止誤操作發(fā)生。系統(tǒng)配有1套蒸發(fā)電源,通過切換選擇上電。
- 膜厚測量裝置:采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套(選配)。
蒸發(fā)示意圖
氣路原理圖