用途：

本設(shè)備是我公司研發(fā)用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。

主要技術(shù)參數(shù)：

1. 真空室：300*300*H450mm；2. 可鍍工件直徑：φ100mm,配抽拉式樣品臺，樣品可旋轉(zhuǎn)；另配備銅基板樣品臺；

3. 極限真空度：優(yōu)于6*10^-5Pa;4. 抽氣時間：大氣壓~6*10^-4Pa小于30min；5. 蒸發(fā)：電阻式蒸發(fā)電極（4對）   功率：2KW；配備2套數(shù)顯蒸發(fā)電源，其中一套電源可切換至2組電極。

6. 開啟方式：正面開門結(jié)構(gòu)，便于換絲及裝料；7. 真空系統(tǒng)：機械泵+分子泵；

8. 膜厚儀：石英晶振膜厚儀膜厚儀  ，配水冷探頭一套；

9. 水冷系統(tǒng)：系統(tǒng)配備一套冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。

設(shè)備結(jié)構(gòu)介紹：

該設(shè)備由真空室、真空機組和電氣系統(tǒng)組成

1. 真空室

方形腔體，側(cè)部抽氣，正面開門。不銹鋼材質(zhì)，配φ100觀察窗（含防污擋板）、預抽接口、充氣接口；內(nèi)部有底板、蒸發(fā)源（四組蒸發(fā)源相互隔離避免交叉污染），蒸發(fā)源上配有電動擋板裝置等；

2. 真空系統(tǒng)及進氣

采用600L分子泵+8L旋片式機械泵。采用真空波紋管連接，配有復合式數(shù)顯真空測量儀表。

可根據(jù)需要選配流量計，用于進氣流量精確控制。

3. 電氣系統(tǒng)

電氣系統(tǒng)包括真空機組控制、蒸發(fā)與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構(gòu)，有效防止誤操作發(fā)生。系統(tǒng)配有2套蒸發(fā)電源，通過切換選擇上電。

4. 膜厚測量裝置：采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套。

蒸發(fā)示意圖：

氣路原理圖

水冷電極結(jié)構(gòu)