儀器技術參數
Compact WLI | |
測量技術 | 白光干涉 |
算法 | 垂直掃描結合相移 |
掃描器 | 精密壓電陶瓷驅動， 閉環反饋電容控制精密壓電陶瓷 |
掃描范圍 | 400 µm |
掃描速度 | 150 µm/s |
系統軟件 | smartVIS 3D / Speedytec on GPU |
分析軟件 | Trimos Nanoware Analyse |
測量陣列 | 1936 x 1216 測量點 |
傳感器重量 | 約2 kg |
供電要求 | 100 to 240 VAC, 50/60 Hz |
鏡頭技術參數
技術參數 | WLI 2.5x | WLI 5x | WLI 10x | WLI 20x | WLI 50x | WLI 100x |
垂直分辨率 | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm | 0.1 nm |
橫向分辨率 (X/Y) | 4.81 µm | 4.81 µm | 1.2 µm | 0.9 µm | 0.66 µm | 0.52 µm |
垂直測量范圍 | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm | 400 µm |
測量面積 （XY） | ~4536 µm x ~3447 µm | ~2268 µm x ~1723 µm | ~1134 µm x ~861 µm | ~567 µm x ~430 µm | ~226 µm x ~172 µm | ~113 µm x ~86 µm |
放大倍數 | 2.5x | 5x | 10x | 20x | 50x | 100x |
工作距離 | ~10.3 mm | ~9.3 mm | ~7.4 mm | ~4.7 mm | ~3.4 mm | ~3.4 mm |
最小可測Ra | NA | NA | < 80 nm | < 20 nm | < 5 nm | < 5 nm |
工作臺技術參數
選配工作臺 | |
標準 | 手動XY工作臺 73 x 55 mm² 手動Z軸調節，粗調范圍70 mm, 精調范圍1.9 mm, 傾斜調整+/-3° 自動Z軸掃描，掃描范圍400 µm |
手動 | 手動XY工作臺25 x 25 mm² 手動Z軸調節，粗調范圍70 mm, 精調范圍1.9 mm, 傾斜調整+/-3° 自動Z軸掃描，掃描范圍400 µm |
電動 | 電動XY工作臺 75 x 50 mm²,自動拼接 手動Z軸調節，粗調范圍70 mm, 精調范圍1.9 mm, 傾斜調整+/-3° 自動Z軸掃描，掃描范圍400 µm |
分析軟件
Nanoware 2.0分析軟件
根據不同的應用需求，Nanoware分析軟件有不同版本及模塊可供選擇：
一共有5種軟件版本：
l 2D： LT和XT
l 3D：STT、XTT和PRO
各版本軟件可選的軟件模塊：
l LT：輪廓模塊、統計模塊
l XT：輪廓模塊、輪廓模塊、統計模塊
l STT：輪廓模塊、統計模塊
l XTT：輪廓模塊、輪廓模塊、統計模塊
l PRO：輪廓模塊、統計模塊
可導出的2D、3D文件格式：
l 2D：.PRO/.PRF/.PIP/.UA2/.TXT/.SMD
l 3D：.SUR/.UA3/.TXT/.SDF/.STL
Trimos® NanoWare LT
2軸測量基本模塊。包含2D輪廓和粗糙度分析的基
本功能，符合ISO 4287標準。
l 2D輪廓和粗糙度 (Ra, Rz，...)
l 輪廓校平、鏡像
l 除去形狀、微粗糙度濾波、標準濾波
l 提取感興趣的輪廓區域
l 粗度和波度分離
l 水平距離和高度測量
l 孔和頂點面積測量
l 公差極限（合格/不合格）顯示
Trimos® NanoWare XT
2軸測量基本模塊。 包含2D輪廓和粗糙度分析的基
本功能，符合ISO 4287標準。
l 2D輪廓和粗糙度 (Ra, Rz，...)
l 輪廓校平、鏡像
l 除去形狀、微粗糙度濾波、標準濾波、
形態濾波
l 提取感興趣的輪廓區域
l 粗度和波度分離
l 水平距離和高度測量、階躍高度測量
l 孔和頂點面積測量、分形分析
l 公差極限（合格/不合格）顯示
l 填充非測量點、設置閾值、輪廓修描
l 輪廓合并、創建系列輪廓
l 重采樣
l 輪廓相減、輪廓自相關、兩個輪廓相互關聯
l 頻率分析（頻譜圖和平均功率譜密度）
l 功能分析（Abbott曲線、Rk參數、Rk輪廓）
Trimos® NanoWare STT
3軸測量基本模塊. 包含分析輪廓的所有功能及
符合ISO 25178表面分析
l 3D基本參數(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、鏡像、旋轉
l 空間濾波器、填充非測量點、設置閾值、修
描表面點
l 除去形狀、標準濾波器
l 提取感興趣區域、提取輪廓
l 重采樣
l 3D視圖、偽色視圖、照片模擬
l 水平距離和高度測量、階躍高度測量
l 頂點計數分布、孔和頂點體積測量
l 頻率分析（平均功率譜密度）
l 功能分析（Abbott曲線、切片）
l 公差極限（合格/不合格）顯示
Trimos® NanoWare XTT
適合于表面結構功能性及分析需求. 此模塊覆蓋
STT版本并包含XT模塊所有2D分析功能
l 3D基本參數(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、逐行校平、鏡像、旋轉
l 空間濾波器、填充非測量點、設置閾值、修
描表面點
l 除去形狀、標準濾波器、過濾頻譜、設置頻
譜閾值、傅里葉變換、形態濾波
l 提取區域、提取輪廓、轉換成系列輪廓
l 拼接
l 重采樣
l 兩個表面相減、表面自關聯運算、兩個表面
相互關聯運算
l 3D視圖、偽色視圖、照片模擬、等高線
l 水平距離和高度測量、階躍高度測量
l 島嶼分析、頂點計數分布、分形分析、孔和
頂點體積測量
l 頻率分析（紋理方向、頻譜、平均功率譜密
度、紋理均質性）
l 功能分析（Abbott曲線、Sk參數、體積參
數、切片）
l 公差極限（合格/不合格）顯示
Trimos® NanoWare PRO
市場上2D及3D表面特征評估完整版本. 此模塊
綜合了表面測量領域15年以來的經驗, 是專業用
戶
l 3D基本參數(Sa, Sq, St, Smr, ...)
l 表面校平、逐行校平、分區校平、鏡像、旋轉
l 空間濾波器、填充非測量點、設置閾值、糾正
行、修描表面點、反褶積
l 除去形狀、標準濾波器、過濾頻譜、設置頻譜
閾值、傅里葉變換、子波轉換、形態濾波
l 提取感興趣區域、提取輪廓、二進制遮罩
l 轉換成系列輪廓、二進制閾值設置、二進制分割
l 拼接
l 重采樣
l 兩個表面相減、表面自關聯運算、兩個表面相互
關聯運算
l 3D視圖、偽色視圖、照片模擬、等高線
l 水平距離和高度測量、階躍高度測量
l 表面圖形分析（ISO 25178檢測算法）、微波
谷網絡相關參數分析、島嶼分析、頂點計數分
布、分形分析、孔和頂點體積測量、單個波谷
深度測量
l 頻率分析（紋理方向、頻譜、平均功率譜密度、
紋理均質性）
l 功能分析（Abbott曲線、Sk參數、體積參數、
切片）
l 公差極限（合格/不合格）顯示
