TC-Wafer校準(zhǔn)儀 快速退火爐溫場均勻性校準(zhǔn),本儀器是一款應(yīng)用于晶圓溫場均勻性實(shí)時(shí)測量校準(zhǔn)的儀器設(shè)備,并能生成報(bào)告。
產(chǎn)品特點(diǎn):
支持最多20路實(shí)時(shí)測量晶圓溫度;
溫度均勻性實(shí)時(shí)曲線圖和數(shù)值顯示;
采集數(shù)據(jù)Excel表格導(dǎo)出,并生成報(bào)表;
晶圓溫點(diǎn)分布直觀顯示并自動(dòng)生成校準(zhǔn)報(bào)告;
可快速更換TC-wafer及自定義功能;
大屏高分辨率顯示;
數(shù)據(jù)最多采集10次/秒;
65瓦Type-C快速充電;
內(nèi)置大容量電池,使用可達(dá)4小時(shí);
10000條數(shù)據(jù)存儲量;
支持多種傳輸方式,如U盤、藍(lán)牙、無線網(wǎng)絡(luò);
便攜一體化設(shè)計(jì);
......
TC-Wafer校準(zhǔn)儀 快速退火爐溫場均勻性校準(zhǔn) 產(chǎn)品應(yīng)用:
RTP設(shè)備生產(chǎn)廠家
使用RTP設(shè)備客戶
TC-wafer生產(chǎn)廠家
其他晶圓熱處理設(shè)備
產(chǎn)品參數(shù):
項(xiàng)目 | TC-20參數(shù) | TC-10參數(shù) |
續(xù)航 | 待機(jī)15小時(shí)、連續(xù)使用4小時(shí) | 待機(jī)15小時(shí)、連續(xù)使用4小時(shí) |
屏幕 | 13寸、分辨率:2880*1920 | 10寸、分辨率:1920*1280 |
數(shù)據(jù)采集速率 | 100ms ~ 450ms | 100ms ~ 450ms |
使用范圍 | 室溫~ 900℃ | 室溫~ 900℃ |
單一點(diǎn)位溫度偏差 | ±1.1℃/0.4% | ±1.1℃/0.4% |
晶圓尺寸 | 2吋 ~12吋 | 2吋 ~8吋 |
熱電偶測溫點(diǎn)數(shù) | 1 ~ 20 | 1 ~ 10 |