MA3000大平臺工業顯微鏡

詳細描述：
　　儀器適用范圍：伴隨著半導體工業的發展，我國半導體圓晶生產已從較小的尺寸發展到現在的8英寸（200mm），MA3000就是為了適應大芯片檢測而開發的新產品。MA3000配備反射照明光學系統，反射式暗場和偏光系統，使它可用在相同尺寸的半導體掩模板，液晶基板或其它平面顯示器及各種工業器件的檢驗場合。儀器特性：
　　1. 200mmX200mm帶快速離合器大行程載物臺。
　　2. l 視場數∮22mm無限遠校正像差超長工作距離平場消色差物鏡。
　　3. l 落射光明場、暗場及偏光可快速轉換。
　　4. l 機架經計算機《有限元》分析處理，有高穩定性及抗振性。
　　5. l 軸承鋼淬火后精密加工的滾柱導軌，使儀器具有穩定的使用精度及高的可靠性。
　　6. l 采用人機工程學的設計理念，調焦手輪前置，使之操作舒適。
　　高質量的光學系統，確保儀器在對各試樣檢驗時均能獲得良好的成像質量。
　　無限遠校正像差長距平場消色差物鏡。
　　MA3000配用了本公司開發的視場數 22mm無限遠校正像差超長工作距離平場消色差系列物鏡。對各種被檢測的試樣均能獲得優良的成像質量。物鏡的超長工作距離，可避免物鏡與試樣相碰而損傷試樣或物鏡。
　　在反射照明光路中，明場、暗場和偏光可快速轉換。
　　MA3000配有明場和暗場共用的物鏡，只要拉動拉桿，即可明場暗場轉換；只需插入或拉出起偏器和檢偏器，即可偏光轉換，操作十分方便。
　　采用完善的柯拉照明系統。
　　MA3000采用完善的柯拉照明系統，在整個視場內照明均勻。
　　MA3000大平臺工業顯微鏡配套表