LEXT OLS4500是一款集成了激光顯微鏡和探針掃描顯微鏡功能于一體的新型納米檢測顯微鏡,可以實現從50倍到100萬倍的超大范圍的觀察和測量。
OLS4500為您帶來的解決方案
實現納米級觀測的新型顯微鏡。不會丟失鎖定的目標。
電動物鏡轉換器切換倍率和觀察方法
涵蓋了低倍到高倍觀察,并配有多種觀察方法可以迅速發現觀察對象。
可以完成低倍到高倍的大范圍倍率觀察。不僅如此,*光學技術打造的光學顯微鏡帶來多種觀察方法,可以容易的發現觀察對象。此外,對于光學顯微鏡難以找到的觀察對象,還可以使用激光顯微鏡進行觀察。在激光微分干涉(DIC)觀察中,可以進行納米級微小凹凸的實時觀察。
縮短從放置樣品到獲取影像的工作時間。
放置好樣品后,所有的操作都在1臺裝置上完成。可以迅速,正確的把觀察對象移到SPM顯微鏡下面,所以只要掃描1次就能獲取所需的SPM影像。
一體機的機型,所以無需重新放置樣品只要在1臺裝置上切換倍率、觀察方法就能夠靈活應對新樣品。
OLS4500實現了無縫觀察和測量
【發現】可以迅速發現觀察對象
使用光學顯微鏡的多種觀察方法, 迅速找到觀察對象
OLS4500采用了白色LED光源, 可以觀察到顏色逼真的高分辨率彩色影像。它裝有4種物鏡,涵蓋了低倍到高倍的大范圍觀察。OLS4500充分發揮了光學觀察的特長, 除了使用的明視場觀察(BF)以外,還可以使用對微小的凹凸添加明暗對比, 達到視覺立體效果的微分干涉觀察(DIC), 以及用顏色表現樣品偏光性的簡易偏振光觀察。此外,OLS4500上還配有HDR功能(高動態范圍功能), 該功能使用不同的曝光時間拍攝多張影像后進行合成,來顯示亮度平衡更好、強調了紋理的影像。在OLS4500上您可以使用多種觀察方法迅速找到觀察對象。
使用激光顯微鏡,可以觀察到光學顯微鏡中難以觀察到的樣品影像
OLS4500采用了短波長405 nm的激光光源和高N.A.的專用物鏡, 實現了優異的平面分辨率。能以鮮明的影像呈現出光學顯微鏡中無法看到的觀察對象。在激光微分干涉(DIC)模式中還可以實時觀察納米級的微小凹凸。
【接近】迅速發現觀察對象,在SPM上正確完成觀察
實現了無縫觀察,不會丟失觀察對象
OLS4500在電動物鏡轉換器上裝配了涵蓋低倍到高倍觀察的4種物鏡, 以及小型SPM單元。在光學顯微鏡或激光顯微鏡的50倍、100倍的實時觀察中, 由于SPM掃描范圍一直顯示于視場中心, 所以把觀察目標點對準該位置后, 只要切換到探針顯微鏡, 就能夠正確接近觀察對象。因此, 只需1次SPM掃描就能獲取目標影像, 從而能夠提高工作效率并降低微懸臂的損耗。
不會在SPM觀察中迷失的、可切換式向導功能
【納米級測量】簡單操作,可以迅速獲得測量結果
新開發的小型SPM測頭, 減少了影像瑕疵
新開發的小型SPM測頭
使用向導功能,自由放大SPM影像
使用向導功能, 可以觀察時進一步放大探針顯微鏡拍到的影像的所需部分倍率。只要在影像上用鼠標指針設置放大范圍并掃描, 就可以獲取所需的SPM影像。可以自由設置掃描范圍, 所以大幅度提高了觀察和測量的效率。
向導功能在10μm×10μm影像上放大3.5μm×3.5μm范圍
優異的分析功能, 應對各種測量目的
曲率測量(硬盤的傷痕)
- 截面形狀分析(曲率測量、夾角測量)
- 粗糙度分析
- 形態分析(面積、表面積、體積、高度、柱狀值、承載比)
- 評價高度測量(線、面積)
- 粒子分析(選項功能)
跟從向導畫面的指示, 可輕松操作的6種SPM測量模式
接觸模式
控制微懸臂與樣品之間作用的排斥力為恒定的同時, 使微懸臂進行靜態掃描, 在影像中呈現樣品的高度。還可以進行彎曲測量。
金屬薄膜
動態模式
使微懸臂在共振頻率附近振動, 并控制Z方向的距離使振幅恒, 從而在影像中呈現樣品高度。特別適用于高分子化合物之類表面柔軟的樣品及有粘性的樣品。
鋁合金表面
相位模式
在動態模式的掃描中, 檢測出微懸臂振動的相位延遲。可以在影像中呈現樣品表面的物性差。
高分子薄膜
電流模式
對樣品施加偏置電壓,檢測出微懸臂與樣品之間的電流并輸出影像。此外,還可以進行I/V測量。
Si電路板上的SiO2圖案樣品。高度影像(左)中顯示為黃色的部分是SiO2。在電流影像(右)中顯示
為藍色(電流不經過的部分)。通過上圖,可以明確電路板中也存在電流不經過的部分。
表面電位模式(KFM)
使用導電性微懸臂并施加交流電壓, 檢測出微懸臂與樣品表面之間作用的靜電, 從而在影像中呈現樣品表面的電位。也稱作KFM(Kelvin Force Microscope)。
磁帶樣品。在電位影像中可以看出數百mV的電位差分布于磁帶表面。這些電位差的分布,可以認為
是磁帶表面的潤滑膜分布不均勻。
磁力模式(MFM)
在相位模式中使用磁化后的微懸臂進行掃描, 檢測出振動的微懸臂的相位延遲, 從而在影像中呈現樣品表面的磁力信息。也稱作MFM(Magnetic Force Microscope)。
硬盤表面樣品。可以觀察到磁力信息。
裝配了激光掃描顯微鏡,靈活應對多種樣品
輕松檢測85°尖銳角
采用了有著高N.A. 的專用物鏡和專用光學系統(能限度發揮405 nm 激光性能),LEXT OLS4500 可以精確地測量一直以來無法測量的有尖銳角的樣品。
LEXT 專用物鏡
有尖銳角的樣品(剃刀)
高度分辨率10 nm,輕松測量微小輪廓
由于采用405 nm的短波長激光和更高數值孔徑的物鏡, OLS4500達到了0.12 μm的平面分辨率。因此, 可以對樣品的表面進行亞微米的測量。結合高精度的光柵讀取能力和奧林巴斯的亮度檢測技術, OLS4500可以分辨出亞微米到數百微米范圍內的高度差。此外, 激光顯微鏡測量還保證了測量儀器的兩大指標——“正確性”(測量值與真正值的接近程度)和“重復性”(多次測量值的偏差程度)的性能。
0.12μm行間距
高度差標準類型B, PTB-5, Institut für Mikroelektronik, Germany, 6 nm高度測量中的檢測
從大范圍拼接影像中目標區域
高倍率影像容易使視場范圍變小,而通過設置,OLS4500的拼接功能最多可以拼接625幅影像,從而能夠獲得高分辨率的大范圍視圖數據。不僅如此,還可以在該大范圍視圖上進行3D顯示或3D測量。
可用于傳統的線粗糙度測量,也可用于信息量較多的面粗糙度測量
越來越重要的表面粗糙度測量
為了應對這些市場需求, ISO規定的立體表面結構測量儀器中, 添加了激光顯微鏡和AFM(ISO 25178-6)。因此, 與傳統的接觸式表面粗糙度測量相同, 非接觸式表面粗糙度測量也被認定為評價標準。OLS4500中配置了符合ISO規定的粗糙度參數。
在面粗糙度測量中詳細掌握粗糙度的分布和特點
在非接觸式表面粗糙度測量中, 除了線粗糙度還可以測量面粗糙度。在面粗糙度測量中可以掌握樣品表面上區域內粗糙度分布和特點, 并能夠與3D影像對照評價。OLS4500可以根據不同樣品和使用目的, 分別使用激光顯微鏡功能或探針顯微鏡功能測量表面粗糙度。
OLS4500的粗糙度參數
參數兼容性
OLS4500具有與接觸式表面粗糙度測量儀相同的表面輪廓參數,因此具有相互兼容的操作性和測量結果。
適應下一代參數
OLS4500具有符合ISO25178的粗糙度(3D)參數。通過評估平面區域,可以進行高可靠性的分析。
OLS4500的顯微鏡技術
光學顯微鏡的原理和特長
- 明視場觀察 最基本的觀察方法,通過樣品的反射光成像進行觀察
- 微分干涉觀察 給樣品表面的微小凹凸添加明暗對比,使之變為可視的立體影像
- 簡易偏振光觀察 照射偏振光(有著特定振動方向的光線),把樣品的偏光性變為可視影像
激光顯微鏡的原理和特長
可進行亞微米級觀察和測量的激光顯微鏡(LSM:Laser Scanning Microscope)
激光顯微鏡的高精度XY掃描(示例)
有更高的平面分辨率。
LEXT OLS4500采用405 nm的短波長半導體激光、高數值孔徑的專用物鏡、以及的共焦光學系統,可以達到0.12 μm的平面分辨率。此外,OLS4500配有奧林巴斯的掃描加掃描型2D掃描儀,可以實現高達4096×4096像素的高精度XY掃描。
的Z軸測量
高度測量(微透鏡)
探針顯微鏡的原理和特長
可以觀察納米級微觀世界的探針顯微鏡(SPM:Scanning Probe Microscope)
探針顯微鏡的原理
通過微懸臂掃描進行納米觀察
SPM傳感器光路圖
多種觀察模式在影像中呈現表面形狀和物性
高分子薄膜
- 接觸模式: 在影像中呈現表面形狀(較硬的表面)
- 動態模式: 在影像中呈現表面形狀(較軟的表面、有粘性的表面)
- 相位模式: 在影像中呈現樣品表面的物性差
- 電流模式*: 檢測出探針和樣品之間的電流并輸出影像
- 表面電位模式(KFM)*: 在影像中呈現樣品表面的電位
- 磁力模式(MFM)*: 在影像中呈現樣品表面的磁性信息
* 該模式為選項功能。
決定高精細度、高質量影像的微懸臂
探針位于長度約100μm~200μm的薄片狀微懸臂的前端。您可以根據樣品選擇不同的彈簧常數、共振頻率。反復掃描會磨損探針,所以請根據需要定期更換微懸臂探針。