卡爾蔡司 ZEISS EVO18鎢燈絲掃描電鏡
ZEISS公司具有悠久的電鏡研究、生產歷史，在世界上一直處于地位。
當今的ZEISS公司納米技術系統分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德國本部電鏡生產基地和英國劍橋廠及其他配件廠組成。積掃描電鏡領域及透射電鏡領域多年的研發經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個一：
一臺靜電式 TEM (1949)
一臺商用 SEM (1965)
一臺全數字 SEM (1985)
一臺帶有成像濾波器的 TEM (1992)
一臺可變壓力 FE-SEM (2001)
一臺具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)
一臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的EFTEM (2003)
ZEISS電鏡技術經歷了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等發展階段，現已具有鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等生產能力的廠家。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到廣大用戶的信賴與認可。
2. *的儀器結構設計
ZEISS掃描電鏡采用通用的鏡體設計，可配備各種不同的附件，適應各種分析的需要。并具有靈活的可升級性，可按照用戶研究工作發展的需要進行升級。各種類型的掃描電鏡均有高真空、低真空（或超低真空）型號，以滿足不同樣品檢測的需要。
3. 的技術性能
高分辨率 ： 目前，鎢燈絲掃描電鏡的分辨率達到3nm，能夠滿足失效分析、材料研究等方面的需要。
大樣品室： ZEISS掃描電鏡具有世界上大的樣品室，樣品室內部尺寸為Φ365mm×275mm，全對中的樣品臺，可放置的大樣品尺寸為Φ250mm×145mm，樣品臺大承載重量為5kg，方便各種大樣品的分析。
高效無污染真空系統： ZEISS各種型號的掃描電鏡均采用了渦輪分子泵抽真空，其抽真空速度快、無污染、免維護是其大的優勢。還可提供無油的真空系統。
自動化操作： 新型的掃描電鏡全部采用當前*的計算機集成自動化控制，采用Windows視窗操作系統、圖形用戶控制界面，全部操作可用鍵盤和鼠標完成。樣品臺坐標軸全部馬達驅動，軟件功能強大，操作非常簡單和方便。
五軸馬達自動控制全對中樣品臺：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。
高穩定性、可靠性： ZEISS掃描電鏡具有很高的穩定性，鏡筒、電路板等均采用了水冷，保證了其工作的穩定與可靠。做工的，工藝的考究，也為世界。
4. 全面的成像解決方案
ZEISS的鎢燈絲掃描電鏡可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，對任何材料都沒有局限性，滿足金屬、陶瓷、地礦、化工、半導體、生命科學等所有研究領域需要。其超大樣品室預留足夠端口，可搭配能譜、波譜、背散射電子衍射、陰極熒光等，樣品臺可裝加熱臺、冷卻臺和拉伸臺以滿足各種研究需要。其大束流和優異的束流穩定度支持各種大束流和長時間的分析。
掃描電鏡的強大功能已使其成為研究所以及工廠的微觀失效分析的一個基本工具，為失效分析提供真實確切的證據，提高相應領域的分析水平。廣泛應用于航空航天、交通、材料、冶金、地礦、半導體、生命科學等方面。
5. 低真空的應用
在失效分析中，除了金屬樣品外，還有很多非金屬樣品，這些樣品導電性很差。要分析這些非導電樣品，樣品的充電是不可避免的。由于電子束打到樣品上使樣品帶電，其產生的電場影響了二次電子的產生和接收，使圖像上呈現一片片亮的或暗的區域，無法進行正常觀察。要對這些非導電樣品進行分析，就必須排除樣品充電的影響。其方法之一就是將樣品上的電荷中和掉。ZEISS掃描電鏡所采取的措施是：使樣品室處于低真空狀態，樣品表面所產生的二次電子與樣品室中的氣體分子相碰撞，使氣體電離，這些氣體離子附著于樣品表面，將樣品上所帶的電荷中和掉。使用專用的探測器，接收二次電子與氣體分子相碰撞時產生的光子，這些光子也就代表了二次電子信號，使成像不受樣品導電性的影響，在分析這些樣品時能夠得到理想的成像。
對于一些含水、含油的樣品，可以采用更低的真空度，使水分在該壓力、溫度下不至于揮發，這樣便可觀察到真實的生物樣品形貌。
6. 具有多種觀察模式，
分辨率模式、景深模式、分析模式、視場模式、魚眼模式。
