| 系列 Series | 雜質 Impurity | 入口 Inlet（ppm） | 出口 Outlet（ppb） |
| HON- He/Ar/Ne/Xe -S/W/VVV | O2 | ＜3 | ＜1 |
| N2 | ＜1 | -- | |
| H2 | ＜1 | ＜1 | |
| CO | ＜1 | ＜1 | |
| CO2 | ＜1 | ＜1 | |
| CH4 | ＜0.5 | -- | |
| H2O | ＜3 | ＜1 | |
| NMHC | ＜0.5 | ＜1 | |
| PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
| Pressure Drop | ＜1bar | ||
| Flow | 10～3000Nm3/h | ||
工藝介紹：
（1）通過物理和化學吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O、H2等雜質。
（2）吸附反應器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可連續供氣。
應用領域：
集成電路制造行業
半導體、LED、激光、太陽能光伏行業
氣體行業
