XPS 作為一種重要的表面分析方法，廣泛應用于固體材料表面的元素組分和化學態的研究，例如電池材料，催化劑，集成電路，半導體，金屬，聚合物，陶瓷和玻璃等，可滿足從研發到失效分析的廣泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新設計的高靈敏分析器，靈敏度是上一代的2倍，具有更低的檢測限，能夠實現從微區到大面積的高靈敏度化學分析。微聚焦掃描X射線和SXI影像，通過類似SEM的SXI影響可以作為樣品導航，實現精準地定義微區分析位置
PHI Versaprobe 4 X射線光電子能譜儀應用范圍：
包括表面的元素與化學態分析（氫和氦除外）。
表面物種的化學狀態的識別，包括有機和無機材料，導體和絕緣體。
深入薄膜中的組成元素分布概況，包括半導體、薄膜結構，磁介質薄膜，光學鍍膜，裝飾涂料，和耐磨涂層。
在必須避免會對電子束技術有破壞性效果時的樣品成分分析。
