特點

• 全新粒子分析功能可快速識別和分析微粒
• 高性能共聚焦顯微拉曼光譜儀采用牢固、集成式設計
• 自動準直和校準確保了科學準確的測量，不需要工具或手工過程
• 實時預覽，自動熒光校正，自動曝光和宇宙射線抑制
• 系統狀態指示標識能讓用戶一眼就知道系統已經過優化，隨時可以收集數據
• 三通路細光束自動準直維持了性能和采樣完整性
• 激光功率調節器可確保在激光器使用壽命內的樣品激發都保持一致
• *的無運動部件的光譜儀設計讓使用更加簡便，并讓檢測系統和校準更加穩健
• 使用自動識別和儲存對齊的預對齊和鎖定到位的組件讓用戶可以在數秒鐘之內重新配置儀器
• 激光和其他組件可以與 DXR3 拉曼系列中的任意儀器互換和共享使用
• 可選的自動偏振拉曼功能拓展了對化學結構信息的深入研究
• 在不需要工具或服務工程師到訪幫助的情況下添加新激光波長組件

激光安全性

• 顯微鏡單獨經過一級激光安全認證。（注：光纖附件和一些其他的附件為 IIIb 級激光裝置，需要激光安全預防措施和激光安全護目鏡。）
• 觀察時，激光被護目鏡物理阻擋在目視查看路徑外，以防止眼睛直接暴露于激光。

驗證

• 提供 DQ/IQ/OQ/PQ 驗證的完整套件，包括廣泛的文件和自動化軟件協議
• Omnic D/S 軟件符合 CFR 21 第 11 部分規定

的性能

• 空間分辨率 — 理想樣品上的分辨率高達 540 nm
• 理想樣品上的共聚焦深度分辨率 — 可達 1.7 μm
• 通過 CCD 單次曝光即可獲取 3500-50 cm^-1 的全譜范圍，避免接譜產生拼接偽影。532 nm 激光器的光譜范圍擴大到 6,000 cm^-1
• 支持多個激發激光器。455 nm，532 nm 高亮度，532 nm 高功率，633 nm 高亮度，633 nm 高功率和 785 nm 高亮度和 785 nm 高功率
• 針對所有激發激光的自動熒光校正功能
• 研究級 Olympus 光學元件
• 自動強度校正功能使不同儀器和不同激發激光的拉曼光譜具有可比性
• 多維波長校準功能為全譜范圍的波長提供精確的校準
• 專有三重光學光譜儀設計提供峰形并保證所有波長的高共焦性
• 通過軟件控制共聚焦和高能收集模式之間的自由切換
• 專有宇宙射線自動去除功能和高質量激光線濾器確保獲取無偽峰的光譜
• 消偏振的激光激發可避免樣品取向效應所帶來的光譜偏差
• 激光功率調節器能對激光功率實時監測，確保在激光器的使用壽命期間，甚至在更換激光器后激光激發能量的重復性
• 針對每個激發激光優化光柵，避免多個激發激光共用一塊光柵所帶來的系統性能損失
• 專有自動準直功能確保系統性能的日日如新
• 專有智能背景自動去除功能消除了 CCD 暗能量光譜

推薦用途：

• 法醫學 – 追蹤證據和違法藥物鑒定
• 制藥 – 多晶型、顆粒污染物和漫射研究
• 藝術品修復/保護 – 鑒別和表征顏料、樹脂、釉彩和油墨
• 考古學 – 表征角質物、貝殼、骨頭和陶瓷文物
• 太陽能 – 硅結晶度；光伏材料的表征
• 聚合物 – 包裹體和凝膠缺陷、老化效果、層壓材料連接層以及結晶度
• 失效分析 – 表征顆粒和表面上的小特點
• 寶石學 – 彩色寶石的快速 ID，區別天然和合成鉆石、表征包裹體和摻雜劑
• 納米技術 – 表征石墨烯、CNT、DLC 涂層和其他納米結構
• 學術研究 – 在材料科學、生物學研究和許多應用研究領域有用