一、概述

SE-L 是一款全自動高精度光譜橢偏儀，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜的表征分析。

■ 高精度自動測量光學橢偏測量解決方案；

■ 全自動變角、調焦等控制平臺，一鍵快速測量；

■ 軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷；

■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力

二、產品特點

■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■ 高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；

■ 全自動橢偏測量技術，基于行業電機控制技術，自動調整測量角度，高精度控制臺，實現樣件快速自動對準找焦；

■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

三、產品應用

■ 半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等；

■ 新材料，新物理現象研究：材料光學各向異性，電光效應、彈光效應、聲光效應、磁光效應、旋光效應、Kerr效應、Farady效應等；

■ 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；

■ 光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數測量，膜層厚度及表面粗糙度測量等；

■ 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；

■ 生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等；

■ 塊狀材料分析：固體（金屬、半導體、介質等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數k表征，玻璃新品研發和質量控制等。

建議配件

技術規格