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水平等離子刻蝕機TS-PLH17...

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號高頻板表面
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/11/25 15:27:54
  • 訪問次數257
產品標簽:

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深圳市東信高科自動化設備有限公司始創于1998年,是中國早期一批專業從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術、射頻及微波等離子體技術研發、生產、銷售于一體的國家髙新技術企業,隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設于香港。目前公司設立有等離子事業部,超聲清洗事業部,自動化設備事業部,塑膠焊接事業部。產品涉及等離子體表面處理設眢,超聲波淸洗設備、電鍍、制冷等環保自動化設備等。公司現有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發工程師近40余人,售后服務25余人。 為適應國內外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業部聯合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內外科硏機構,投入相當大的硏發成本,先后硏發岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統等。目前產品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導體及精密制造行業在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術研究和應用,成功的推動了我國低溫等離子技術在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術、化工、環保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學合成和和氣、液、固態物質的處理方面的發展。 憑借公司的強大研發實力,東信高科已成功申請多項技術。目前經過近二十年的發展,公司產品先后經過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、中國、、東南大學光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創新、國顯科技、吉利汽車等世界企業和硏究單位達成戰略合作協議,成為上述企業和單位的設備供應商。公司秉承誠信、拼搏、創新的精神理念,以人為本、高效服務的經營理念,立足中國,面向,打造的等離子表面處理設備供應商和服務商!
產品簡介: 等離子刻蝕機
水平等離子刻蝕機TS-PLH17... 產品信息

產品參數:

型號 水平等離子刻蝕機TS-PLH17
整機尺寸 1800mm(W)×1090mm(D)×1805mm(H)
電極規格 17層平板式電極板(790mm(W)×530mm(D)/31W×21D(in))
腔體尺寸 1050mm(W)×690mm(D)×955mm(H)
電源功率 10KW/40KHz
重量 1600kg
進氣系統 2—5路工作氣體可選:Ar2、N2、H2、CF4、O2
電氣控制
PLC&人機界面
真空泵 干泵
冷水機 70000 BTU, 380 VAC, 3 Phase 35-50 Amp, 50/60 Hz
尾氣處理塔(選配)
220V, 38.1mm 接口
電源 380V

PCB/FPC等離子刻蝕機用途:

1、去除PCB電路板在機械鉆孔及鐳射鉆孔中因高溫造成高分子材料熔融在孔壁金屬面的膠渣,特別適用于化學品很難進入的激光鉆小孔上的應用。

2、HDI板:等離子體能去除激光鉆孔后形成的碳化物,刻蝕和活化導通孔,提高PHT工藝的良率與可靠性,克服鍍銅層與孔底銅材分層。

3、FPC板:多層軟板的孔壁除殘膠,補強材料如鋼片、鋁片、FR-4等表面清潔活化,激光切割金手指形成的碳化物分解,以及精細線條制作時去除干膜殘余物(去除夾膜),都可以通過等離子體表面處理技術來實現。

4、化學沉金/電鍍金前金手指、焊盤表面清潔

5、軟硬結合板:軟硬結合板是由幾種不同熱膨脹系數的材料層壓在一起組成,孔壁及層與層之間的線路連接容易產生斷裂和撕裂現象,利用等離子體技術對材料進行清潔、粗化、活化處理,可以提高軟硬結合板孔金屬化的可靠性和線路層壓間的結合力

6、軟硬結合板除膠渣

7、內層表面粗化、活化、改變附著力結合力

8、Teflon板:類似于特氟龍這樣材質的高頻微波板,由于其材料的表面能非常低,通過等離子體技術可以對其孔壁和材料表面進行活化,提高孔壁與鍍銅層的結合力,杜絕出現沉銅后黑孔,消除孔銅和內層銅高溫斷裂爆孔等現象:提高阻焊油墨與絲印字符的附著力,有效防止阻焊油墨及印刷字符脫落、

9、BGA貼裝:在BGA貼裝前對基板上的焊盤進行等離子體預處理,可使焊盤表面達到清潔、粗化、活化的效果,極大的 提高了BGA貼裝的一次成功率和可靠性。

10、化學沉金/電鍍金后,SMT前焊盤表面、金手指表面清潔:可焊性改良,杜絕虛焊,上錫不良,提高強度和信賴性。

等離子刻蝕原理:

等離子刻蝕是采用高頻輝光放電反應,使反應氣體激活成活性粒子,如原子或游離基,這些活性粒子擴散到需刻蝕的部位,在那里與被刻蝕材料進行反應,形成揮發性反應物而被去除。等離子體刻蝕分為兩個過程:首先,等離子體中產生化學活性組分;其次,這些活性組分與固體材料發生反應,形成揮發性化合物,從表面擴散排走。例如,CF4離解產生的F,與S反應生成SiF4氣體,結果是在含Si材料的表面形成了微觀銑削結構。等離子體刻蝕是一個通用術語,包括離子刻蝕、濺射刻蝕以及等離子體灰化等過程。

售后服務:

響應迅速,在全國各地均有售后服務點。

整機保修壹年,保修期內設備如出現故障(非人為損壞)乙方安排售后人員跟進處理,直至故障排除;質保期后,供應商免費提供技術咨詢及檢修費,只收取相關成本費。

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