DH500ZZS箱式電子束蒸發鍍膜機適用于制備導電薄膜，半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，高性能薄膜研究及新材料科學研究工作。其主要特點為功能強、鍍膜質量穩定、重復性好、操作簡便。

主要技術參數

1、鍍膜室體積：500×500×600mm³，特殊規格可定做；

2、極限真空度：6.7×10^-5 Pa，恢復真空：從大氣抽至6.7×10^-4 Pa ≤（40分鐘）；

3、真空抽氣系統：機械泵與復合分子泵組成；真空測量系統：復合數顯真空計；

4、蒸發源：電子束蒸發源：270°E型電子槍及高壓電源，電子槍功率0～6KW可調；

電阻蒸發源：銅水冷電極4根，功率：3kW/10V兩組；

5、結構形式：立式前開門后置抽氣系統；

6、工件烘烤溫度：室溫～800℃可控可調（PID控溫）；

7、旋轉夾具：公轉或行星公自轉夾具。速度從 0r～30r/min 無級可調；

8、選配件：光學膜厚測量系統、石英晶振測厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機組等；

9、供電電源：三相AC380V，50Hz；整機功率22KW。

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