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RIE SI 591 等離子刻蝕機

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公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
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廠商性質其他
更新時間2022/11/16 15:54:32
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公司介紹主營產品

深圳市藍星宇電子科技有限公司，經過十多年的紫外光專業技術沉淀，可以根據客戶特殊要求提供定制化服務，研發設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產設備，擁有自主品牌及注冊商標。同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產品, 始終堅持創新, 技術, 服務, 誠信的企業文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。應用領域: 半導體/微納，光電/光學, 生命科學/生物醫療等領域的研發和生產, 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等。半導體/微納，光電/光學產品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術產品。生命科學/生物醫療產品主要有：PCR儀，核酸質譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設備，光譜/色譜/質譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。并可依據客戶需求，研發定制相關產品。我們以高性價比的優勢為客戶提供優質的產品與服務，為高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等客戶提供儀器設備和材料。

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產品簡介在線詢價

RIE 等離子刻蝕機 SI 591，特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝，可以通過預真空室和電腦控制的等離子工藝系統實現。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活性，例如，SI 591可作為單一反應腔系統集成在多腔系統中。

RIE SI 591 等離子刻蝕機產品信息

ENTECH RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機

SI 591特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝，可以通過預真空室和電腦控制的等離子工藝系統實現。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活性，例如，SI 591可作為單一反應腔系統集成在多腔系統中。

工藝靈活性

RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝

占地面積小且模塊化程度高

SI 591 可配置為單個反應腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設備。

SENTECH控制軟件

我們的等離子蝕刻設備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝窗口，數據記錄和用戶管理。

預真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優異的工藝再現性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是SI 591的設計特點。樣品直徑大可達200mm，通過載片器加載。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作。

位于頂部電極和反應腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進行原位監測。

SI 591結合了計算機控制的RIE平行板電極設計的優點和預真空室系統。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕。在SENTECH，我們提供不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統，目標是高靈活性或高產量。SI 591也可用作多腔系統中的一個工藝模塊。

SI 591 compact