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PlasmaPro 800 RIE反應離子刻蝕機

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公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
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廠商性質其他
更新時間2022/11/11 16:03:55
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公司介紹主營產品

深圳市藍星宇電子科技有限公司，經過十多年的紫外光專業技術沉淀，可以根據客戶特殊要求提供定制化服務，研發設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機/去膠機等科研以及生產設備，擁有自主品牌及注冊商標。同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產品, 始終堅持創新, 技術, 服務, 誠信的企業文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。應用領域: 半導體/微納，光電/光學, 生命科學/生物醫療等領域的研發和生產, 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等。半導體/微納，光電/光學產品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機，電子束光刻機, 激光直寫光刻機，紫外光刻機，微納3D打印機，德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發鍍膜機，微波離子沉積機MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機等*技術產品。生命科學/生物醫療產品主要有：PCR儀，核酸質譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設備，光譜/色譜/質譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實驗耗材等。并可依據客戶需求，研發定制相關產品。我們以高性價比的優勢為客戶提供優質的產品與服務，為高等院校, 研究所，科技企業及醫療機構等客戶提供儀器設備和材料。

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產品簡介在線詢價

英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE，是結構緊湊、且使用方便的直開式系統，該系統為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產級別的批量以及300mm晶圓的工藝。

PlasmaPro 800 RIE反應離子刻蝕機產品信息

英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE

概述：

PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統，該系統為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產級別的批量以及300mm晶圓的工藝。

高性能工藝

準確的襯底溫度控制

準確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

選項

PlasmaPro 800 PECVD

旨在生產高質量的均勻介質薄膜。PECVD 中的應力控制是由可選的或者混合的高/低頻等離子體源提供的, 使通過調整工藝得到具有張應力，壓應力或者低應力的沉積薄膜成為可能。

PlasmaPro 800 RIE/PE：在同一設備上結合了RIE的各向異性和 PE模式刻蝕的高選擇性。

PlasmaPro 800 RIE：成熟的干法刻蝕廣泛應用于整個工業領域。

特征：

為化合物半導體、光電子和光子學應用提供了的工藝靈活性，PlasmaPro 800 可提供：

大型下電極 - 低成本

刻蝕終點監測 - 可靠性和可維護性俱佳

通過激光干涉儀與/或發射光譜進行終點監測 - 增強刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機分離，放置在遠端服務區

近距離耦合渦輪泵 - 提供*的泵送速度加快氣體的流動速度

數據記錄 - 追溯腔室的歷史狀態以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電極 - 出色的電極溫度控制和穩定性

應用：

使用我們的具有特殊配置的失效分析設備進行干法刻蝕解剖工藝 —— 具有RIE和 PE兩種模式
RIE／PE工藝涵蓋了從封裝好的芯片和裸芯片到整片300mm晶圓刻蝕
高質量的PECVD 沉積的SiNx和SiO2薄膜，適用于光子學、介電層鈍化和諸多其它領域
SiO2，SiNx和石英刻蝕
金屬和聚酰亞胺有機物刻蝕
用于高亮度LED生產的鈍化沉積
III-V族刻蝕工藝