產品介紹：
PECVD系統由管式爐，真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。PECVD系統增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。
PECVD系統主要特點：
1.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
2.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。
3.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
4.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。
5.廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
應用范圍：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。
設備主要技術參數：
產品名稱 | 高真空PECVD設備(CE認證) |
滑軌管式爐部分 | |
產品型號 | KJ-T1200-S5030-H |
爐管尺寸 | Φ50mmX1600mm |
爐管材質 | 石英管 |
加熱區 | 300mm |
工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控方式 | K型熱電偶 |
控制方式 | 觸屏控制，帶獨立搖臂，可以根據實際使用需求，調節溫控屏的角度，使用更方便 |
控溫精度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
升溫速率 | 0-20ºC/min ，建議10ºC/min |
加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制） |
加熱功率 | 3KW |
爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
爐體結構 | 爐體帶滑軌，可實現快速升溫和降溫 |
法蘭接頭 | 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
密封系統 | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。 |
殼體 | 不銹鋼殼體 |
選配 | 輔助降溫風扇 |
真空系統部分 | |
名稱 | 真空系統 |
主要參數 | 1.采用進口安捷倫高真空分子泵組，極限真空度可達10-3pa 2.KF25快接，不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭，真空泵相連； 3.數字式真空顯示，其測量范圍為5×10-5- 1500mbar，測量精度高高 |
氣路系統部分 | |
名稱 | 四路質量流量計 |
主要參數 | 四通道精密質量流量計：觸屏控制，數字顯示，自動控制。流量范圍流量范圍： 1.MFC 1-MFC4：0-1000sccm可調 2.一個混氣罐 3.4個不銹鋼針閥安裝在供氣系統的左側，可手動控制4種氣體； 4.進出氣口：3進1出 流量控制：手動旋轉式調節 連接方式：雙卡套連接 |
等離子電源部分 | |
名稱 | 500W等離子電源 |
功率范圍 | 0-500W（連續可調） |
工作頻率 | 13.56MHZ+0.005% |
工作模式 | 連續輸出 |
射頻輸出阻抗接口 | N-type,female（50Ω） |
功率穩定度 | ≤2W |
反射功率 | 70W |
電源保護設置 | DC過流保護，功放過溫保護，反射功率保護 |
供電電壓/頻率 | 單相交流（187V-253V）50-60HZ |
冷卻方式 | 風冷 |
整機尺寸 | 88X483X550 MM |
整機重量 | 13.5KG |
認證 | *、CE認證 |
售后服務 | 質保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍） |
1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。
