反滲透膜元件的污染與清洗
污染種類 | 可能發(fā)生之處 | 壓降 | 給水壓力 | 鹽透過率 |
金屬氧化物(Fe、Mn、Cu、Ni、Zn) | 一段,最前端膜元件 | 迅速增加 | 迅速增加 | 迅速增加 |
膠體(有機(jī)和無機(jī)混合物) | 一段,最前端膜元件 | 逐漸增加 | 逐漸增加 | 輕度增加 |
礦物垢(Ca、Mg、Ba、Sr) | 末段,最末端膜元件 | 適度增加 | 輕度增加 | 一般增加 |
聚合硅沉積物 | 末段,最末端膜元件 | 一般增加 | 增加 | 一般增加 |
生物污染 | 任何位置,通常前端膜元件 | 明顯增加 | 明顯增加 | 一般增加 |
有機(jī)物污染(難溶NOM) | 所有段 | 逐漸增加 | 增加 | 降低 |
阻垢劑污染 | 二段最嚴(yán)重 | 一般增加 | 增加 | 一般增加 |
氧化損壞(Cl2、Ozone、KmnO4) | 一段最嚴(yán)重 | 一般增加 | 降低 | 增咖 |
水解損壞(超出pH范圍) | 所有段 | 一般降低 | 降低 | 增咖 |
磨蝕損壞(碳粉) | 一段最嚴(yán)重 | 一般降低 | 降低 | 增咖 |
O型圈滲漏(內(nèi)連接管或適配器) | 無規(guī)則,通常在給水適配器處 | 一般降低 | 一般降低 | 增咖 |
膠圈滲漏(產(chǎn)水背壓造成) | 一段最嚴(yán)重 | 一般降低 | 一般降低 | 增咖 |
膠圈滲漏(清洗或沖洗時關(guān)閉產(chǎn)水閥造成) | 最末端元件 | 增加(污染初期和壓差升高) | 增咖 |
清洗液 | 主要組份 | 藥劑量 | 清洗液pH值 | 清洗液溫度 |
1 | 檸檬酸(99%粉末) | 17.0磅(7.7公斤) | 用氨水調(diào)節(jié)pH至3.0~4.0 | 40℃ |
2 | 鹽酸(HCl)(密度22波美度或濃度36%) | 0.47加侖(1.8升) | 緩慢加入鹽酸調(diào)節(jié)pH至2.5,調(diào)高pH用氫氧化鈉 | 35℃ |
3 | 氫氧化鈉(99%粉末) 或(50%液體) | 0.83磅(0.38公斤) 0.13加侖(0.5升) | 緩慢加入氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH至11.5,調(diào)低pH時用鹽酸 | 30℃ |