電子半導體行業(yè)水質(zhì)標準：
我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
電子工業(yè)對水質(zhì)的要求：
微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
應用場合：
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
☆超純材料和超純化學試劑；
☆實驗室和中試車間；
☆汽車、家電表面拋光處理；
☆光電產(chǎn)品；
☆其他高科技精微產(chǎn)品；
典型電子級超純水制備工藝：
☆預處理----反滲透----水箱----陽床----陰床----混合床----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----精制混床----微孔膜過濾器----用水對象
☆預處理----一級反滲透----pH調(diào)節(jié)裝置----中間水箱----二級反滲透----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象
☆預處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象 新工藝
☆預處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----拋光混床----TOC分解器----微孔膜過濾器----用水對象
工藝流程：
