值得信賴
■ 高分辨率的光學元件具有*的光譜分辨能力
■ 面對痕量分析，光譜干擾無所遁形
■ 譜線選擇無需妥協
■ 即開即用，快速測試
功能強大、智能便捷
■ 炬管裝卸快速，使儀器運行時間
■ 炬管卡插定為，無需調節
■ 運行成本低、高效經濟
■ 適用范圍廣、分
靈活的觀測方式
■ 可根據測試需求，選擇的觀測方式，無需折中
■ 氬氣反吹消除尾焰，背景低、靈敏度高
■ 一次進樣可測試亞ppb~%含量的樣品
■ 極大簡化樣品制備
提高測試能力
■ 穩定、強勁的等離子體可輕松應對何種樣品基體
■ 樣品無需稀釋，確保測試準確性和精密度
■ 應用靈活，擴展性強
■ 在特殊的復雜基體中，也有的檢出限
應用范圍：
各種樣品中低含量、微量和痕量的金屬元素，以及部分非金屬元素的定性和定量分析；
尤其適合分析樣品量大，分析結果要求高的用戶；
可廣泛應用于 石油、化工、冶金、鋼鐵、地質、農業、環保、水質、食品、藥品、疾控、材料、質檢等行業
技術特點：
超高的分辨率+優異的光學性能
PlasmaQuant 9100光學分辨率可達3pm，達到譜線自然寬度水平，因此即便面對復雜的基體樣品，也可輕松應對光譜干擾。同時，PlasmaQuant 9100采用原裝的卡爾蔡司光學系統，保證了160nm-900nm波長連續全覆蓋和優于0.0004nm的波長準確度。
高分辨率可在范圍內提供的分辨率的分析譜線，特別適合各種復雜樣品的檢測，提供準確的分析結果，讓分析工作變得更為簡單高效。
增強型雙向觀測技術
一次進樣4種觀測方式，沒有濃度斷檔，無需分組或稀釋，可滿足不同濃度（ppb-%）的同步測量，為所有元素和濃度提供最合適的觀測和測量方式，滿足所有應用要求。
勁穩定的等離子體激發系統
PlamaQuant 9100高分辨率ICP-AES配備高能量、高穩定的等離子體激發系統，可從容應對最復雜基體樣品的測定，顯著擴大測試的應用范圍。同時由于儀器在復雜基體中可獲得極低的檢出限和樣品允許使用更少的前處理步驟，使得測試結果更加精準、方法穩定性更佳，測試效率大大提高。滿足省時：開機即測(5分鐘)；省氣：無需提前和延時吹掃，所有吹掃氣體和冷卻氣體都將引入等離子氣充分利用；省事：高濃鹽、有機樣、高低濃度一次完成測定。
直觀的軟件界面，智能的背景扣除技術
Aspect PQ軟件控制、監控和記錄整個PlasmaQuant 9100系統的所有過程，模塊化設計簡潔，提供的操作靈活性。
ABC背景校正技術，軟件可自動精確扣除背景，消除人為誤差，保證數據準確，可重現性好。
CSI，*的光譜建模扣背景技術，可將樣品基體的精細結構背景，在測量時通過模型進行扣除，得到測試元素本身的譜圖，還原譜線本真模樣。
人性化設計 — 即開即測，操作便捷、維護簡單
* 即開即用 — 高性能新一代CCD檢測器
* 省時省氣 — 測試結束即可關機，深紫外區元素無需長時間提前吹掃
* 實時自檢系統 — 保障，使您安心
* 組合式炬管 — 高靈活性，降低成本
* 卡插式設計 —自動準直，1分鐘即可完成安裝
PlasmaQuant 9100是工業等許多應用領域分析的有利幫手，可揭示樣品的最小細節，助您在質量控制、成分分析和過程控制方面大有所為！
