公司介紹:
德國(guó)Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù),Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域,Microworks代表著高精度。在一個(gè)晶片內(nèi)或者從一個(gè)晶片到另一個(gè)晶片,其高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于1µm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器(選頻濾波器)、微彈簧,RF等。
產(chǎn)品介紹:
X射線光柵的制作流程
吸收光柵
(a)準(zhǔn)備光柵膠層
(b)掩膜光刻膠層在X射線下曝光
(c)形成精細(xì)的光刻膠結(jié)構(gòu)
(d)電鍍金形成X射線光柵結(jié)構(gòu)
產(chǎn)品特點(diǎn):
高縱橫比結(jié)構(gòu)
極小周期
大面積X射線
標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)面積
4英寸基板: 70~90mm的直徑
6英寸基板:高達(dá)110mm(在某些情況
有限制)
更大尺寸選項(xiàng)
拼接多個(gè)光柵面板
在單個(gè)制作工藝上擴(kuò)大結(jié)構(gòu)面積(研發(fā))
彎曲光柵
椎束照射高縱橫比光柵,為了避免影像影響,可采用彎曲光柵,可使用特殊的夾具來運(yùn)輸
主要應(yīng)用:
用于Talbot干涉儀的X射線光柵
微焦源Talbot干涉成像儀 光源:微焦X射線管 E=25keV 加速電壓:40KV 電流:120 μA G1:周期4.37 μm(Ni) G2: 周期2.4μm(Au) | |
在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實(shí)驗(yàn) E=17.8 keV Al 濾片 2.0 mm G1:周期 2.4 μm (Ni) G2:周期 2.4 μm (Au) |