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環(huán)保APP正式上線

X射線光柵及LIGA微結(jié)構(gòu)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京眾星聯(lián)恒科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)Grating
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/6/29 17:11:44
  • 訪問次數(shù)209
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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在專業(yè)、敬業(yè)、拼搏的理念指導(dǎo)下,不斷進(jìn)取學(xué)習(xí),時(shí)刻關(guān)注科學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新,北京眾星聯(lián)恒科技有限公司致力于引進(jìn)的EUV/SXR/X射線產(chǎn)品、及新孵化*產(chǎn)品給中國(guó)的同步輻射,研究所,高校及制造業(yè)的客戶。 我司是德國(guó)INCOATEC公司、美國(guó)XOS(光學(xué)組件)、德國(guó)X-SPECTRUM、德國(guó)GREATEYES、德國(guó)Microworks、捷克ADVACAM、及英國(guó)MSI輝光放電質(zhì)譜儀的中國(guó)區(qū)總代理,產(chǎn)品線包含X射線源、EUV/SXR/X射線光學(xué)元件、EUV/SXR/X射線探測(cè)器、X射線分析系統(tǒng)和輝光光放電質(zhì)譜儀等。我司同時(shí)致力于給客戶提供x射線解決方案,并于2016年推出了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的桌面超快X射線診斷裝置,具有超微、超亮、高信噪比和高穩(wěn)定性的特點(diǎn),在物質(zhì)超快過程研究、精細(xì)分辨成像等方面具有重要的應(yīng)用價(jià)值。 我們堅(jiān)持以客戶需求為導(dǎo)向,以專業(yè)、專注為根本,以高效服務(wù)為核心,緊密跟進(jìn)學(xué)科的發(fā)展,努力從客戶處學(xué)習(xí)并豐富完善自己的技術(shù)儲(chǔ)備,解決客戶的實(shí)際需求,以前沿技術(shù)驅(qū)動(dòng)的創(chuàng)新獲取公司發(fā)展的空間,逐步成長(zhǎng)為優(yōu)秀的X射線領(lǐng)域及的材料分析系統(tǒng)方案提供商。 我們敬畏知識(shí)不斷進(jìn)步所帶來的變化和革新,堅(jiān)信:高品質(zhì)的產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是獲得客戶認(rèn)可的標(biāo)準(zhǔn)!
光學(xué)儀器組件,X射線儀器部件/操作系統(tǒng)
X射線光柵及LIGA微結(jié)構(gòu)
X射線光柵及LIGA微結(jié)構(gòu) 產(chǎn)品信息

公司介紹:

德國(guó)Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù),Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域,Microworks代表著高精度。在一個(gè)晶片內(nèi)或者從一個(gè)晶片到另一個(gè)晶片,其高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于1µm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器(選頻濾波器)、微彈簧,RF等。

產(chǎn)品介紹:

X射線光柵的制作流程

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


吸收光柵

(a)準(zhǔn)備光柵膠層

(b)掩膜光刻膠層在X射線下曝光

(c)形成精細(xì)的光刻膠結(jié)構(gòu)

(d)電鍍金形成X射線光柵結(jié)構(gòu)


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 高縱橫比結(jié)構(gòu)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


  • 極小周期

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

  • 大面積X射線

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)面積

4英寸基板: 70~90mm的直徑

6英寸基板:高達(dá)110mm(在某些情況

有限制)


更大尺寸選項(xiàng)

拼接多個(gè)光柵面板

在單個(gè)制作工藝上擴(kuò)大結(jié)構(gòu)面積(研發(fā))



  • 彎曲光柵

椎束照射高縱橫比光柵,為了避免影像影響,可采用彎曲光柵,可使用特殊的夾具來運(yùn)輸

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


主要應(yīng)用:

  • 用于Talbot干涉儀的X射線光柵

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司
北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

微焦源Talbot干涉成像儀

光源:微焦X射線管

E=25keV

加速電壓:40KV

電流:120 μA

G1:周期4.37 μm(Ni)

G2: 周期2.4μm(Au)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實(shí)驗(yàn)

E=17.8 keV

Al 濾片 2.0 mm


G1:周期 2.4 μm (Ni)

G2:周期 2.4 μm (Au)




關(guān)鍵詞:成像儀
產(chǎn)品對(duì)比
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