管式化學氣相沉積設備 CVD100產品概述

1、適用范圍：適合于各單位實驗室、高等院校實驗室、教學等的項目科研、產品中試之用。

2、產品優點及特點：該設備是利用有機金屬源化學氣相沉積技術，石英管生長室清潔無污染；多路氣體控制合理；PID加熱溫度高控溫準確且均勻，高真空環境，兼具真空退火爐功能。

3、主要用途：可制備用于光電子、半導體、石墨烯、微波器件等高純薄膜。

管式化學氣相沉積設備 CVD100技術參數

北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設備的研發、設計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設備、真空技術應用設備等相關設備及其工藝的研發、設計、制造、銷售、服務于一體的*。

公司的研發中試孵化基地位于毗鄰雄安新區的任丘經濟技術開發區，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結構組裝，調試等多個中試生產車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發工藝、服務客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內外真空行業zi深的專家、教授作為本公司的技術顧問，確保真空設備產品高水平，始終保持較強的自主研發能力、*的設計概念、領xian的技術優勢。