高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD600產品概述
1、適用：大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產品特點/用途：
?設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
?適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等；
?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。
高真空電子束蒸發鍍膜機 TEMD600技術參數
| 型號 | TEMD600 |
| 真空腔室結構 | 立式圓柱形側開門結構，后置抽氣系統 |
| 真空腔室尺寸 | Φ600×H750mm |
| 加熱溫度 | 室溫～300℃ |
| 旋轉基片臺 | 平板型Φ350mm，或球罩型基片臺可選 |
| 膜厚不均勻性 | ≤±5.0% |
| 考夫曼離子源 | 可選 |
| 蒸發源 | 電子槍8KW 6穴坩堝 國產進口可選，配2-3組電阻蒸發 |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統 |
| 占地面積 | 長×寬：L2500×W1600mm |
| 總功率 | ≥17KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設備的研發、設計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設備、真空技術應用設備等相關設備及其工藝的研發、設計、制造、銷售、服務于一體的*。
公司的研發中試孵化基地位于毗鄰雄安新區的任丘經濟技術開發區，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結構組裝，調試等多個中試生產車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發工藝、服務客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內外真空行業zi深的專家、教授作為本公司的技術顧問，確保真空設備產品高水平，始終保持較強的自主研發能力、*的設計概念、領xian的技術優勢。
