雙氧化鋯氧分析儀● 防水濺、防塵、防爆、防震，本安電路設計，抗靜電，抗電磁干擾，通過國標測試和CMC計量器具生產許可認證
●防護級別IP66，內置水汽、粉塵過濾器，防止因水汽和粉塵損壞傳感器和儀器
●內置泵吸式測量，響應迅速，采樣距離大于10米，特殊氣路設計，可直接檢測
正壓或負壓-0.3～2公斤的氣體，對測量結果無影響
雙氧化鋯氧分析儀
根據Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散紅外）原理，可選擇性在波長2-9um范圍內測量多種組分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些簡單碳氫化合物。
多應用于存在化學反應的生產過程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應環境以外，還需要使用氣體分析儀表來分析進氣的化學成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產效率。
一臺氣體分析儀或一套氣體分析系統相當于一套完整的化工工藝設備，因此，氣體分析儀器系統工作過程就是在實現一系列的化工過程。若想通過氣體分析得到準確數據，就必須了解這一系列化工過程中各階段的情況及變化，認真研究并掌握其中的規律，只有這樣才能達到準確測定的目的。
DLAS技術本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術是一種高分辨率的光譜吸收技術，半導體激光穿過被測氣體的光強衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關系式表明氣體濃度越高，對光的衰減也越大。因此，可通過測量氣體對激光的衰減來測量氣體的濃度。
