技術參數：

YPL-NIL-SI400納米壓印系統： 

溫度范圍從室溫到350攝氏度； 
壓力范圍從0到20個PSI（在4英寸晶元上）； 
紫外曝光系統； 
真空范圍從1個標準大氣壓到0.1帕； 
水冷系統； 
樣品尺寸直徑zui大4英寸； 
PLC遠程控制，帶觸摸屏； 
手動裝載樣品和模板； 
自帶機器控制軟件； 
在軟件控制下可實現自動增加和釋放壓力； 
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統的納米壓印機。 

主要特點：

 該機利用紫外曝光或者熱壓固化實現壓印圖案在壓印高分子膠層中的復制，并通過各項功能與過程參量的優化與篩選，通過遠程PLC控制系統結合觸摸屏單元，實現全過程的實時監控與全自動化控制