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天津容大檢測有限公司 :王景府
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晶間腐蝕的產(chǎn)生必須具備兩個條件:①晶界物質(zhì)的物理化學(xué)狀態(tài)與晶粒不同;②特定的環(huán)境因素。晶間腐蝕常在不銹鋼、鎳基合金、銅合金等合金上發(fā)生,主要在焊接接頭上或經(jīng)一定熱處理后使用時發(fā)生。晶間腐蝕不僅導(dǎo)致材料的承載能力降低,而且誘發(fā)晶間型應(yīng)力腐蝕開裂,或引發(fā)點腐蝕。
晶間腐蝕的根本原因是晶粒間界及其附近區(qū)域與晶粒內(nèi)部存在電化學(xué)上的不均勻性,這種不均勻性是金屬材料在熔煉、焊接和熱處理等過程中造成的。
例如:
①晶界析出第二相,造成晶界某一合金成分的貧乏化;
②晶界析出易于腐蝕的陽極相;
③雜質(zhì)與溶質(zhì)原子在晶界區(qū)偏析;
④晶界區(qū)原子排列雜亂,位錯密度高;
⑤新相析出或轉(zhuǎn)變,造成晶界處較大的內(nèi)應(yīng)力。這些原因均可能構(gòu)成特定體系的晶間腐蝕機理模型。
總之,當(dāng)某種介質(zhì)與金屬所共同決定的電位下,晶界的溶解電流密度遠(yuǎn)大于晶粒本身的溶解電流密度時,便可產(chǎn)生晶間腐蝕。
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